Messsysteme

 

PVA TePla AG offers two kinds of the most advanced quality monitoring technologies for semiconductor production control: the SIRD for mechanical stress measurement and the TWIN for ion-implant dose monitoring. All of our systems are fully 300mm compatible and comply with all requirements of class 1 clean room and factory automation.





Wafermetrologie

Messsysteme

PVA TePla AG bietet verschiedene Metrologie Systeme für die Überwachung von Fertigungsprozessen in der modernen Halbleiterindustrie: das SIRD System zum Erkennen und auswerten von Scherstress auf wafern, Geräte zur Defekt-Erkennung auf wafern und ingots durch Ultraschall Mikroskopie sowie dem TWIN System zur Kontrolle des Implant prozesses. Alle unserer Systeme sind 300mm fähig und können vollständig automatisiert werden. Sie entsprechen den Klasse 1 Reinraum Anforderungen und erfüllen die SEMI standards S2 und S8.

   



SIRD
SIRD A300


Die Einführung der 300mm wafer hat neue Anforderungen der Scheibenqualität an die Lieferanten von Wafern nach sich gezogen. Durch die über doppelt so große Fläche und Gewicht der Wafer ....  mehr mehr

   

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TWIN
TWIN A200 / A300

 

Die Implantation ist ein sehr kritischer Prozess innerhalb der Herstellung von modernen integrierten Schaltkreisen. Hier werden die wichtigen charakteristischen Eigenschaften der Bauelemente ....  mehr mehr

   

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