Plasma Systeme

 


Der Geschäftsbereich Plasma Systems, entstanden aus der früheren TePla AG, München, konstruiert, entwickelt und fertigt Seriengeräte und kundenspezifische Plasmaanlagen zur Oberflächenreinigung und -aktivierung, mit speziellem Fokus auf die Halbleitertechnik, Solarzellenfertigung, organische Elektronik und Anwendungen in der Industrie und Medizintechnik.


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Photoresist Ashing


Photoresist Ashing




In der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen ist das Entfernen der Fotolackschichten nach dem Ätzen der Strukturen oder nach Implantation einer der am häufigsten durchzuführenden Prozessschritte.
  




PS 300 Series
GIGAbatch 310 M


The PS 300 series of microwave batch resist ashers ranges from manual to fully automated accommodating wafers from 2" to 8" (50 to 200 mm) ...  mehrmehr
  

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PS 4008
GIGAbatch 360M / 380M


Compact system in floor standing cabinet, manual drawer door. Designed for volume production at low COO, targeting fabrication of MEMS and HB-LEDs ...  mehrmehr
  

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PS 600
GIGAbatch 360P / 380P



High-volume asher for advanced waferfabs, motorized door, ready for combination with a wafer transfer unit for sage and gentle automatic wafer loading. Of up to 50 wafers simultaneously, resulting in a ...  mehrmehr

  

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ps 210
IonWave 10 


The Microwave Plasma System IonWave 10 is our most popular full featured plasma surface modification system designed for laboratory and production use ... mehr mehr
  

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GIGAfab M


Most compact version of the GIGAfab model family, targeting SU-8 Removal, MEMS Fabrication, Wafer Bumping and Flat Panel Display Technology ...  mehrmehr
  

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PS 4008
GIGAfab A200/300


Automatic Single Wafer Asher for 200 or 300 mm Wafers, serving Semiconductor Device Fabrication, Wafer Bumping and MEMS Manufacturing ...  mehrmehr
  



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Flat Panel Display


Flat Panel Display

Bei der Herstellung von Flachbildschirmen mittels organischer LEDs wird in der Industrie das Tintenstrahldruckverfahren mit hochmolekularen
Polymer-LED-Materialien eingesetzt.
  



PS 4011
GIGAfab Gen 2



Manuelles System für einzelne, große Glasspanelen ... mehrmehr
  



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Chip Packaging


Chip Packaging



Beim Verpacken von Halbleiterbausteinen sorgt eine Plasma-Reinigung vor dem Drahtbonden für höchstsaubere Bondstellen.
Die gemessenen Scher- und Abzugskräfte an den Bondstellen werden hierdurch dramatisch verbessert.
  



GIGA 690
GIGA 690


Das Plasma System GIGA 690 steht für bewährte Mikrowellen-Prozeßtechnologie in einem neuen Design. State-of-the-art Software und Datenübertragungsfunktionen sowie eine höchst bedienerfreundliche Benutzeroberfläche machen das Plasma System 690 zu einer der modernsten Plasma-Produktionsanlagen am Markt.  ...  mehr mehr
  

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PS 400/660
PS 400/660


Die PVA TePla Mikrowellen- Plasma Systeme 400 und 660 stehen für attraktive Anlagentechnik und sind bekannt als die vielseitigsten Plasma-Produktionsanlagen am Markt.  Für das Plasma-Reinigen und Plasma-Aktivieren macht hierbei die Mikrowelle den Unterschied. ...  mehr mehr
  

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PS 400/660 IL
PS 400 Inline



Plasma Systeme 400/660 sind Mikrowellen Plasma Batch-Systeme zur Substratreinigung im Magazin ...  mehrmehr
  

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PS 400 H2
PS 400 H2



Plasma Systeme 400/660 sind Mikrowellen Plasma Batch-Systeme zur Substratreinigung im Magazin ...
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PS 80 Plus
GIGA 80 Plus


Das PVA TePla Plasma System GIGA 80 Plus ist das weltweit einzige, automatisierte  Mikrowellen-Plasmasystem zur Reinigung einzelner Substrate vor dem Drahtbonden und Vergießen, sowie vor dem Flip Chip Underfill und dem Aufbringen von Lotkugeln.  ...mehrmehr
  




GIGA 690
GIGA Fab Asyntis M



GIGAfab ASYNTIS is a plasma etching system equipped with chamber downstream configuration and ...  mehr mehr
  


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Waferdünnen


Waferdünnen




Um mehrere Dies (3D-Stacking Dies) stapeln zu können, ist eine Dicke der Chips 30μm und dünner gefordert. In der Produktion kann diese Dicke nur allein durch das Schleifen nicht mehr erreicht werden.
  



PS 80 Plus Asyntis
PS 80 Plus Asyntis


Chip Side Healing
Back-Side Stress Relief (AES Process, active side faces dicing tape)
Contact free exposing 3D-TSV (AES Process, active side faces dicing tape)
Wafer and Die Thinning (AES Process,  ...  mehrmehr
  

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PS 4008 Asyntis / OEM
PS 4008 Asyntis / OEM


The PS 4008 ASYNTIS/OEM is a remote cold plasma system based on microwave plasma generation. The manual machine is ideally suited for many different applications such as stress relief, special surface treatments and wafer thinning.
In this plasma system ...  mehrmehr
  

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Asyntis 2.2
Asyntis 2.2




Fully Automated Remote Plasma System mehrmehr
  


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Solarzellenätzen

Solarzellenätzen

Die Kantenisolation von polykristallinen Solarzellen mittels Plasmaätzen ist ein zuverlässiger und seit vielen Jahren eingeführter Prozess, der sich vor allem durch hohe Wirtschaftlichkeit auszeichnet.
   


PS 400 Solar
GIGA 690 Solar



Batch Plasma System für die Kantenätzung von Solarzellen bis zur Größe von 210x210mm ...  mehrmehr

   
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RF Anlagen

RF Anlagen Materialoberflächen können durch Behandlung im RF-Niederdruckplasma gereinigt, beschichtet oder auch chemisch modifiziert werden. Die Modifizierung der Oberflächen geschieht durch die im Gas-Plasma vorhandenen aktiven Teilchen, welche sowohl chemisch modifiziert werden.


www.pvateplaamerica.com
  


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