Typ Delta

Die Niederdruck-/Niedertemperatur-Anlage ist für Chemical Vapor Deposition (CVD) von SiGe oder SiGe:C
auf Silizium-Wafern von 200 und 300mm Durchmesser konzipiert. Das modular aufgebaute System mit vertikal angeordnetem Reaktor ist für den Kassette-zu-Kassette-Betrieb vorgesehen. Die besonderen Vorteile dieser Anlage liegen im Vergleich zu Anlagen für andere Verfahren in der universellen Einsatzmöglichkeit (SiGe/SiGe:C/Si für flash epi), hohen Produktivität (ca. 50 Wafer/h) und Ausbeute sowie der Möglichkeit der selektiven Beschichtung. Diese Anlage zeichnet sich wie alle CGS-Produkte durch die Verwendung hochwertiger Materialien und deren exzellente Verarbeitung aus.