Chemical Vapor Deposition
Das CVD-Verfahren (Chemische Gasphasenabscheidung) ermöglicht die Entwicklung fortschrittlicher Keramikwerkstoffe – sowohl als hochdichte Beschichtungen als auch als freitragende Monolithe mit herausragenden physikalischen Eigenschaften. Diese Technologie, die sich bereits in einer Vielzahl wichtiger Anwendungen bewährt hat, bietet erhebliches Wachstumspotenzial in zukunftsweisenden Schlüsselindustrien. Angesichts der weltweit dynamisch wachsenden Märkte ist absehbar, dass CVD-Verfahren vor einer bedeutenden globalen Expansion stehen.
Das CVD-Verfahren vereint mehrere wissenschaftliche und ingenieurtechnische Disziplinen. Innovation ist der Kern unserer Arbeit.
Industrien im Fokus
Halbleiter
Die CVD-Abscheidung von SiC ist für Graphitlieferanten in der Halbleiterindustrie aus mehreren Gründen von Bedeutung:
- Erzeugung hochreiner SiC-Beschichtungen
- Vermeidung von Kontamination
- Verbesserte Leistung und Langlebigkeit
- Essenziell für moderne Halbleiterprozesse
- Hohe Präzision und Anpassbarkeit
Als Prozessgase werden typischerweise SiCl₄ (STC), CH₄ und H₂ oder alternativ SiCH₃Cl₃ (MTS) und H₂ eingesetzt. Die Reaktion findet bei etwa 1.350 °C und einem Druck von einigen hundert mbar statt.
Automotive
Unsere CVD-Technologien, einschließlich Wirbelschichtreaktoren, ermöglichen präzise und gleichmäßige Beschichtungen von Batterieanodenmaterialien (z.B. Silizium-Graphit-Komposite), um Kapazität, Lebensdauer und Gesamtleistung zu erhöhen und gleichzeitig Volumenexpansion zu minimieren.
Luft- und Raumfahrt
Das CVD-Verfahren ermöglicht die Herstellung extrem haftfester und temperaturbeständiger keramischer Beschichtungen. Diese schützen Bauteile zuverlässig vor Verschleiß, Korrosion und thermischer Belastung – ideal für Anwendungen wie Hitzeschilde, Sensoren oder Triebwerkskomponenten.
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