Materiallösungen

CVD-Reaktor

Für fortschrittliche Beschichtungsmaterialien wurden bereits zahlreiche Prozesse und Anlagen entwickelt, darunter:

  • TiC, TiN, Ti(C,N)
  • PyC, SiC, B₄C, TiB₂, BN, B, Al₂O₃, AlN
  • W, Re, ZrC, TaC, HfC
  • DLC, ZnS, ZnSe
  • Dotiertes Aluminieren
  • TCO
Weiter
chemical vapor deposition furnace in a industrial surrounding
Technische Daten
Verfügbare Kammerdurchmesser (mm)600, 900, 1.200, 1.600, 2.500
Maximale Temperatur (°C)1.600 (Option 2.200)
Heizzonen3 bis 4
Basisdruck (mbar)0.02
ReaktortypBodenlader
Drehtisch mit einstellbarer Drehzahl (RPM)0,1 bis 3
Gassystem und FlüssigquellendosierungN₂, H₂, CH₄, MTCS, SiCl₄
AbgasbehandlungNassabscheider

Interesse an CVD Reactor?

Kontaktieren Sie uns