Planar Plasma System GIGAfab M

Kompaktes System der GIGAfab Modellreihe, konzipiert für die SU-8 Epoxyresist Entfernung und Anwendungen in der MEMS-Herstellung, Substraten für organische Elektronik, Wafer Bumping.

Die Anlage ist geeignet für die Bearbeitung einzelner grosser Substrate oder mehreren Substraten simultan. Ausstattung mit planarer MW-Quellentechnologie und Substratplatte aus Aluminium. Temperierbare Platte optional.

Technische Daten

Plasma Kammer:	Aluminium Substratplatte 310 x 310 mm Manuelle Beladung
Plasma Erzeugung:	Mikrowellenfrequenz: 2.45 GHz, max. 2000 Watt Variable Leistung
System Abmessungen:	W x H x D = 850 x 2.000 x 1300 mm Gewicht: 550 kg
Optionen:	Zusätzlicher Gaskanal Wasserstoffprozessgas Generator Option mit TÜV- Zulassung Vakuumpumpe Temperierbare Substratplatte
Anwendungen:	Fotolackveraschung, Descum SU-8 Ätzen/-entfernen Opferschicht-Entfernung