Kristallzucht / Potential wachsen lassen

Leistungsfähige Systeme, eine enge Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern, eine spezifische Anlagenkonstruktion und eine individuelle Auftragsabwicklung ermöglichen die Züchtung qualitativ hochwertiger Kristalle für die Halbleiterindustrie, Hochleistungselektronik und die Photovoltaik- und Elektronikindustrie.

Unsere Technologien

Czochralski-Verfahren


Wir unterstützen Sie mit unseren Czochralski (CZ)-Systemen bei der Herstellung von

  • Siliziumkristallen (Si) für die Halbleiter- und Solarindustrie
  • Monokristallen aus Oxiden für zahlreiche Anwendungen, vor allem in Laser- und Sensorsystemen Monokristallen aus Germanium (Ge) für Detektoren und Mehrfachsolarzellen

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Crystal Growing Systems

Float-Zone-Verfahren


Wir unterstützen Sie mit unseren Float-Zone(FZ)-Anlagen bei

  • der Produktion von hochreinem, monokristallinen Siliziumkristallen für Komponenten der Hochleistungselektronik der Probenvorbereitung von Siliziumkristallen zur Materialanalyse in der industriellen Polysilizium-Produktion

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Hochtemperatur-Gasphasenabscheidung


Unsere PVT-Kristallzuchtanlagen ermöglichen die Herstellung von

  • Siliziumkarbidkristallen für Anwendungen in der Hochleistungselektronik und im Forschungsbereich

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Vertical Gradient Freeze (VGF)


Unsere VGF-Anlagen unterstützen Sie bei der Produktion von

  • monokristallinen Verbindungshalbleiter-Kristallen mit geringer Defektdichte
  • Kristallen, wie Galliumarsenid (GaAs), Indiumphosphid (InP) und Galliumphosphid (GaP), die in der Optoelektronik (LED- und Lasertechnik), Halbleitertechnologie, Hochfrequenztechnik, Solartechnik und Telekommunikationstechnik eingesetzt werden.
  • hoch produktiven Verbindungshalbleiterkristallen, wie GaAs, InP, Germanium oder CaF2

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Sofort-Kontakt

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