Kristallzüchtung / Potential wachsen lassen

Leistungsfähige Systeme, eine enge Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern, eine spezifische Anlagenkonstruktion und eine individuelle Auftragsabwicklung ermöglichen die Züchtung qualitativ hochwertiger Kristalle für die Halbleiterindustrie, Hochleistungselektronik und die Photovoltaik- und Elektronikindustrie.

Unsere Technologien

Czochralski-Verfahren

Wir unterstützen Sie mit unseren Czochralski (CZ)-Systemen bei der Herstellung von

Siliziumkristallen (Si) für die Halbleiter- und Solarindustrie
Monokristallen aus Oxiden für zahlreiche Anwendungen, vor allem in Laser- und Sensorsystemen Monokristallen aus Germanium (Ge) für Detektoren und Mehrfachsolarzellen

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Crystal Growing Systems

Float-Zone-Verfahren

Wir unterstützen Sie mit unseren Float-Zone(FZ)-Anlagen bei

der Produktion von hochreinem, monokristallinen Siliziumkristallen für Komponenten der Hochleistungselektronik der Probenvorbereitung von Siliziumkristallen zur Materialanalyse in der industriellen Polysilizium-Produktion

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Crystal Growing Systems

Hochtemperatur-Gasphasenabscheidung

Unsere PVT-Kristallzuchtanlagen ermöglichen die Herstellung von

Siliziumkarbidkristallen für Anwendungen in der Hochleistungselektronik und im Forschungsbereich

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Crystal Growing Systems

Vertical Gradient Freeze (VGF)

Unsere VGF-Anlagen unterstützen Sie bei der Produktion von

monokristallinen Verbindungshalbleiter-Kristallen mit geringer Defektdichte
Kristallen, wie Galliumarsenid (GaAs), Indiumphosphid (InP) und Galliumphosphid (GaP), die in der Optoelektronik (LED- und Lasertechnik), Halbleitertechnologie, Hochfrequenztechnik, Solartechnik und Telekommunikationstechnik eingesetzt werden.
hoch produktiven Verbindungshalbleiterkristallen, wie GaAs, InP, Germanium oder CaF2

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