IoN 커스텀 시리즈

• 기판의 크기, 형상 및 재질에 정밀하게 맞춤화된 특수 전극 형상으로, 타의 추종을 불허하는 균일성과 공정 제어력 제공
• 필요한 위치에 정확히 적용되는 진정한 원자층 수준의 정밀도 또는 고속 에칭/활성화/증착 — 기존의 평행판 방식이나 기성 시스템으로는 불가능한 성능
• 고성능 PECVD, 다중 구역 가스 공급, 특수 전구체 주입 등 통합된 첨단 기능
• 주어진 맞춤형 챔버 용량 및 기능에 대해 클린룸 내 최소 설치 공간 확보
• 완벽한 턴키 솔루션: PVA TePla의 25년 이상 축적된 산업용 플라즈마 전문성을 바탕으로 한 공정 개발, 검증 및 장기 서비스