하나의 시스템으로 여러 시스템을 대체합니다

VEreveal

  • 반도체 팹 환경(ISO 클래스 3)에 최적화된 인라인 검사 시스템
  • 매크로 검사(macro), 마이크로 검사(micro) 또는 두 가지의 결합(fusion)으로 이용 가능
  • 지속적인 생산 모니터링을 위해 설계된 준실시간 데이터 수집 및 평가
  • 단일 실행으로 웨이퍼 전체(100%) 검사 가능
  • 여러 측정 방법을 대체: 별도의 FT-IR, SEM, LIBS, X-ray 또는 AFM 측정 불필요
  • 300 µm(매크로)부터 서브 마이크론(마이크로)까지의 공간 분해능
  • 최대 300mm 웨이퍼 지원
  • SEMI S2, S8 및 S14 표준 인증 획득
  • 다양한 맞춤 설정 옵션
다음
Scanning InfraRed Depolarization System with monitor
기술 사양
측정 모드반사율
측정 시간< 10초 (일반적)
파장 범위VNIR: 400–1,000 nm | SWIR: 900–1,700 nm
분광 분해능VNIR: 1.34 nm | SWIR: 3.5 nm


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