웨이퍼 표면 측정 시스템

• 공정 화학 물질부터 ICP-MS 교정용 시약에 이르기까지 모든 시약은 시스템에 의해 완전 자동으로 공급됩니다.
• 완전 자동화된 헹굼 및 세척 사이클.
• 오염 및 작동 오류로 인한 인력과 제품에 대한 위험이 최소화됩니다.
• 인건비 절감: 중앙 호스트 컴퓨터가 전체 시스템을 제어하며, SECS/GEM을 통해 모든 구성 요소의 원격 작동 또는 제어가 가능하고, 실시간 결과를 제공합니다.