Chemical Vapor Deposition und Infiltration

Gasphasenverfahren ermöglichen die Abscheidung hochreiner keramischer und kohlenstoffbasierter Materialien mit außergewöhnlicher Präzision. Beim thermischen CVD zersetzen sich Reaktivgase bei erhöhten Temperaturen und bilden hochdichte Beschichtungen oder monolithische Strukturen. CVI wendet dieses Prinzip auf poröse oder faserverstärkte Substrate an und verdichtet diese von innen nach außen, um robuste keramische Faserverbundwerkstoffe wie C/C und C/SiC herzustellen. FBR-Systeme erweitern diese Fähigkeit auf partikelförmige Materialien: Granulatfeststoffe werden in einem flüssigkeitsähnlichen Gasstrom suspendiert und ermöglichen so eine hochgradig gleichmäßige chemische Abscheidung.

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