Reinigung

Höchste Reinheit ist der Schlüssel für anspruchsvolle Hochleistungsanwendungen. Unsere Reinigungstechnologien entfernen Verunreinigungen in Graphit- und CFK-Komponenten effektiv bei hohen Temperaturen unter Vakuum. Maßgeschneiderte Gasbehandlungen – reaktiv oder nicht-reaktiv – erzielen Verunreinigungsgrade von 5 ppm oder weniger und erfüllen damit selbst strengste Kundenanforderungen. Das Ergebnis: maximale Systemverfügbarkeit und reproduzierbar hohe Prozessqualität.