Plasmareinigung und ‑aktivierung

Ein Vakuum-Plasmasystem nutzt Niederdruckgas und HF-Leistung, um reaktive Spezies zu erzeugen, die Oberflächen reinigen, aktivieren oder modifizieren, ohne hohe Temperaturen zu benötigen. Anwendungen umfassen das Entfernen organischer Rückstände, das Erhöhen der Oberflächenenergie für bessere Haftung, das Verbessern der Haftfähigkeit von Beschichtungen und Tinten, das Veraschen/Entfernen von Fotolack in der Elektronik und die Vorbereitung von Polymeren, Metallen, Glas und Keramik für die Montage. Es liefert eine gleichmäßige, reproduzierbare Behandlung mit Rezeptsteuerung (Druck, Gas, Leistung, Zeit) und unterstützt Branchen wie die Halbleiterindustrie, Elektronik, Medizintechnik, Automotive/Luft- und Raumfahrt sowie die allgemeine Fertigung.

 

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Der Prozess

Die Plasmabehandlung von Oberflächen modifiziert diese mithilfe reaktiver Spezies unter Niederdruck:

  • Ätzen: Entfernt Material durch chemisch unterstützte Ionenreaktionen.
  • Reinigen: Entfernt organische Rückstände/Kontaminationen.
  • Aktivieren: Bildet polare Gruppen, erhöht die Oberflächenenergie für Haftung/Bedruckbarkeit.
  • Passivieren: Bildet Schutzschichten, um Korrosion/Reaktivität zu hemmen.
  • Funktionalisieren: Fügt gezielte chemische Gruppen für spezifische Haftung oder Biokompatibilität hinzu.
  • Abscheiden: Bildet Dünnschichten (z. B. PECVD) als Barrieren, Dielektrika oder Haftvermittler.

Alle Prozesse sind rezeptgesteuert (Gas, Druck, Leistung, Zeit) für gleichbleibende, reproduzierbare Resultate.

Die Funktionsweise

Die Plasma-Oberflächenbehandlung versetzt ein Gas bei niedrigem Druck in einen energiereichen Zustand, sodass Ionen und Radikale entstehen, die nur die oberen molekularen Schichten reinigen und modifizieren. Sie entfernt Rückstände, erhöht die Oberflächenenergie für stärkere Haftung und kann schützende oder funktionelle Gruppen hinzufügen oder Dünnschichten ablagern. In der Halbleitertechnik ermöglicht sie schonendes Photoresist-Aschen, Via-Reinigung, Haftungssteigerung für Die-Attach/Underfill und Vorreinigung für verbesserte PECVD/ALD-Nukleation – mit gleichmäßigen, reproduzierbaren Ergebnissen durch präzise Kontrolle von Gas, Druck, Leistung und Zeit.

Vorteile für Kunden

Mit einem Vakuum-Plasmasystem der PVA TePla IoN Serie profitieren Kunden von folgendem:

  • Schlüsselfertiges Niederdruck-Plasmasystem mit Kammer, Vakuumpumpen, HF-Generator, Anpassnetzwerk, MFCs und HMI/PLC-Steuerung
  • Vorgefertigte, rezeptgesteuerte Prozesse (Reinigung, Aktivierung, Descum) mit Datenprotokollierung und Audit-Trail
  • Applikationssupport: Prozessentwicklung, Bemusterung und Einweisung
  • Vorrichtungsoptionen für gleichmäßige Behandlung diverser Geometrien
  • Sicherheitsfunktionen: Verriegelungen, Vakuum-/Gasüberwachung, CE/UL-konforme Praktiken
  • Installation, Schulung sowie nordamerikanischer Service/Ersatzteile
  • Dokumente: Handbücher, FAT-Berichte und Qualifizierungsunterstützung (Uniformitätsmapping, falls zutreffend)
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KI-generierte Illustration eines Halbleiter-Wafers mit leuchtenden blauen Energieeffekten
KI-generierte Illustration eines hell leuchtenden blauen Plasma-Ausbruchs in einer Kammer
KI-generierte Illustration eines Wafers in einer leuchtenden Plasmakammer

Industrien im Fokus

Plasma-Oberflächenbehandlung wird in den Bereichen Halbleiter, Medizintechnik, Life Sciences, Elektronik, Verteidigung, Luft- und Raumfahrt sowie Automobilindustrie eingesetzt. Sie reinigt, aktiviert, ätzt und funktionalisiert Oberflächen für zuverlässiges Bonden, Beschichten und Montieren – und unterstützt dabei Photoresist-Entfernung, Via-Reinigung, Katheterhaftung, biokompatible Oberflächen, robuste Elektronik, Leichtbau-Verbundwerkstoffe für die Luft- und Raumfahrt sowie hochbelastbare Automobilkomponenten. Dies erfolgt durch gleichmäßige, niedertemperierte und rezeptgesteuerte Prozesse.

Halbleiter

Vakuumplasma ermöglicht die Reinigung und Aktivierung von Oberflächen entlang der gesamten Halbleiterfertigung – von Photoresist-Entfernung, Descum und SU-8-Ätzen bis hin zur Vorbehandlung für Wafer-zu-Wafer- und Die-zu-Wafer-Direktbonding, wodurch hochenergetische hydrophile Oberflächen für starke, blasenfreie Verbindungen erzeugt werden. In Backend- und Advanced-Packaging-Anwendungen entfernt Plasma native Oxidschichten zur Aktivierung von Lotbumpen, verbessert das Underfill-Verhalten und reduziert Voids bei Flip-Chip-Prozessen. Vor dem Drahtbonden reinigt und konditioniert Plasma Leadframes, Bondpads und Die-Oberflächen; weitere Anwendungen beinhalten die Haftungsverbesserung von Moldmassen, TSV-Seitenwandreinigung und RDL-Oberflächenvorbereitung.

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Optik

Vakuumplasma reinigt und aktiviert optische Oberflächen wie Linsen, Prismen, Glasfasern und Gitter – wodurch Transmittanz und Reflexion verbessert werden. Es eignet sich ebenso zur Vorbehandlung für Anti-Reflex-, Filter- und Schutzbeschichtungen.

Optoelektronik

Vakuumplasma unterstützt die Fertigung optoelektronischer Bauteile, einschließlich Resist-Entfernung, Descum, Passivierungsvorbereitung und Aktivierung ohmscher Kontakte. Es wird für die Reinigung und Ausdünnung der Rückseite von BSI-Bildsensoren, für die Aktivierung vor AR-Beschichtungen sowie für die Oberflächenvorbereitung vor Metallisierung und Wasserstoffpassivierung verwendet. In Packaging-Anwendungen wird es zur Reinigung von TO-Can- und SMD-Gehäusen, optischen Fenstern, Faser-Pigtail-Bonding sowie zur Aktivierung von Linsenelementen eingesetzt.

Leistungselektronik

Vakuumplasma ist essenziell in der Fertigung von Wide-Bandgap-Leistungshalbleitern. Es ermöglicht SiC-Ätzen, GaN-HEMT-Passivierung, Gate-Oxid-Vorbereitung in MOSFETs und Resist-Entfernung für Strukturierungsprozesse.

Ebenso wichtig ist es für die Vorbereitung ohmscher und Schottky-Kontakte, die Aktivierung von Leadframes und Substraten, die Oberflächenvorbereitung für Die-Attach sowie die Haftungsverbesserung von Vergussmassen und Gelen in Leistungsmodulen.

Energie

Plasma wird in vielen Energietechnologien eingesetzt. In Solar- und Photovoltaikanwendungen ermöglicht es Silizium-Passivierung, Elektrodenreinigung für verbesserte Batteriewirkungsgrade und die Aktivierung von Separatorfolien zur Reduzierung des Innenwiderstands. In Brennstoffzellen verbessert Plasma die Hydrophilie polymerer Elektrolytmembranen, optimiert das Wassertransportverhalten von Bipolarplatten und bereitet Oberflächen für die Katalysatorbeschichtung vor.

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Luft- und Raumfahrt

Vakuumplasma wird in der Luft‑ und Raumfahrt sowie im Verteidigungsbereich für Photoresist‑Entfernung (Ashing), Descum‑Prozesse und kritische Reinigungsanwendungen eingesetzt, bei denen ultrareine oder hochenergetische Oberflächen für Bonding‑, Beschichtungs‑ oder Lackierprozesse erforderlich sind. Es ersetzt effektiv das Abwischen mit Lösungsmitteln sowie mechanische Abrasion, reduziert Arbeitsaufwand und Chemikalieneinsatz und bereitet Metalloberflächen für Klebeverbindungen, thermisches Spritzen und Eloxalprozesse vor – ohne enge Maßtoleranzen zu beeinflussen.

Plasma wird zudem häufig in der Vorbereitung von IR‑ und UV‑Detektoren für Tracking‑Systeme und Sensoren eingesetzt sowie zur Vorbehandlung für konforme Beschichtungen auf Avionik‑Leiterplatten (PCBs). Dies gewährleistet eine vollständige, void‑freie Beschichtung und langfristige Zuverlässigkeit in anspruchsvollen Einsatzumgebungen.

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Automotive

Vakuumplasma wird zunehmend in der Herstellung elektronischer Komponenten, Sensoren und Leistungselektronik moderner Fahrzeuge eingesetzt, da steigende Komplexität und hohe Präzisionsanforderungen konstant saubere und aktivierte Oberflächen erfordern.

Es wird breit angewendet, um Haftungsprobleme bei der großen Vielfalt unterschiedlicher Materialien in der Automobilfertigung zu lösen – von der Verbindung von Polymeren und Verbundwerkstoffen bis hin zur Vorbereitung von Metalloberflächen für strukturelle Klebstoffe.

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Medizin

Plasma wird in einer Vielzahl medizinischer Anwendungen eingesetzt – von Mikrotiterplatten und mikrofluidischen Systemen bis hin zu Kathetern und implantierbaren Geräten – und macht normalerweise nicht benetzbare Oberflächen haftfähig und funktional. Es wird verwendet, um Dünnschichten abzuscheiden, die die Oberflächeneigenschaften grundlegend verändern – von der Ermöglichung der DNA‑Bindung auf Polymeroberflächen bis hin zur Erzeugung medikamentenfreisetzender oder chemikalienbeständiger Beschichtungen.

Ebenso wirksam ist Plasma bei der Verhinderung unerwünschter Oberflächenhaftung in Anwendungen, bei denen die Anlagerung von Zellen oder Proteinen auf der Oberfläche den gewünschten biologischen oder diagnostischen Prozess beeinträchtigen würde.

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IoN Plasma Systeme

Ein Vakuum-Plasma-System nutzt Niederdruckgas und HF-Leistung, um reaktive Spezies zu erzeugen, die Oberflächen reinigen, aktivieren oder modifizieren – ohne hohe Temperaturen.

Typische Anwendungen sind das Entfernen organischer Rückstände, das Erhöhen der Oberflächenenergie für bessere Haftung, die Verbesserung der Haftung von Beschichtungen und Tinten, das Veraschen/Ätzen von Photoresist in der Elektronikfertigung sowie die Vorbereitung von Polymeren, Metallen, Glas und Keramiken für Montageprozesse.

Das Verfahren bietet eine gleichmäßige und reproduzierbare Behandlung mit rezeptbasierter Steuerung (Druck, Gas, Leistung, Zeit) und unterstützt Branchen wie Halbleiter, Elektronik, Medizintechnik, Automotive, Luft- und Raumfahrt sowie die allgemeine Fertigung.

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Die IoN Serie im Überblick

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IoN 40 Plasma System

Das IoN 40 Plasma System ist ein 40-Liter-Plasmareaktor aus Aluminium für F&E- und Produktionsanwendungen. Es bietet ausgereifte und vielseitige Lösungen für ein breites Anwendungsspektrum.

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IoN 40Q Plasma System

Das IoN 40Q Plasma System ist ein 40-Liter-Plasmareaktor aus Quarz in Barrel-Bauweise. Es ist für die Chargenverarbeitung von Wafern ausgelegt – für Photoresist-Strippen, Descum, Nitridätzen und weitere Reinigungsanwendungen in der Halbleiter-, LED- und MEMS-Fertigung. Das heutige IoN 40Q ist darauf ausgerichtet, den sich wandelnden Anforderungen unserer Kunden gerecht zu werden, mit besonderem Fokus auf Vielseitigkeit und Kontrolle bei der Oberflächenbehandlung.

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[Translate to German:] IoN 10q

IoN 10Q Plasma System

Das IoN 10Q Plasma System ist ein 10-Liter-Quarz-Plasmareaktor in Barrel-Bauweise für F&E- und Produktionsanwendungen. Es bietet ausgereifte und vielseitige Lösungen für ein breites Anwendungsspektrum.

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IoN 100 Plasma System

Das IoN 100 Plasma System ist ein 100-Liter-Plasmareaktor aus Aluminium für F&E- und Produktionsanwendungen. Das IoN 100 verfügt über ein größeres Gehäuse, das alle Gas- und Stromanschlüsse integriert.

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IoN Custom Series

Die IoN Custom Series liefert vollständig maßgeschneiderte Plasmasysteme in Produktionsqualität, die auf Ihre spezifischen Substrat- und Prozessanforderungen ausgelegt sind – dort, wo Standardkammern und generische Elektrodendesigns an ihre Grenzen stoßen.

Wenn Ihre Anwendung Leistung jenseits der Grenzen von Standardgeräten erfordert, bietet die IoN Custom Series eine zukunftssichere, produktionsbereite Plattform – von Grund auf für Ihren Prozess entwickelt.

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