Vorteile

GIGAbatch 310M

Kompaktes Tischgerät‑Design
Wirtschaftliches Preisniveau
Vielseitigkeit bei den Substratgrößen (2 Zoll bis 6 Zoll)
Batch-Verarbeitung (bis zu 25 Wafer pro Durchlauf)
Kundenspezifische Waferträger‑Haltearme (optional)
Manuelle Schubladentür
Mikrowellen‑Plasmaquelle
Schnelle Abtragsraten und beschädigungsfreier Prozess
Breite Substratkompatibilität

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GIGAbatch Frontend-Plasmasystem mit geöffneter Kammertür und sichtbaren Wafern im Inneren

Technische Daten

Frequenz	2,45 GHz
Leistung	0-600 W
Elektroanschluss	230 V , 15 A, 50/60 Hz
Vakuumkammer	Quarz, Durchmesser 245 mm, Tiefe 395 mm, Volumen 18 l
Abmessungen (B/H/T)	Ca. 795 x 660 x 710 mm
Gewicht	150 kg

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