Highlights

IoN Custom series

Individuelle Elektrodengeometrie für perfekte Uniformität und Prozesskontrolle
Echte atomare Präzision oder Hochratenprozesse (z.B. Ätzen/Aktivieren/Abscheiden) wo Standardlösungen nicht ausreichen
Integrierte High-End-Kapazitäten: Hochleistungs-PECVD, Multi-Zonen-Gasführung, Spezial-Eduktoren
Kleinstmögliches Cleanroom-Footprint bei maximaler Funktionsdichte
Vollumfängliches Turnkey-System inkl. Prozessentwicklung, Qualifikation, langjährigem Service (PVA TePla mit 25+ Jahren Plasma-Kompetenz)

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The PVA TePla IoN 300 plasma system features a white cabinet with a control interface and a grey chamber door for semiconductor equipment processing.

The PVA TePla IoN 300 is a plasma system unit featuring a control panel and a secure chamber door designed for industrial semiconductor equipment use.

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