技术参数
| 可用腔室直径（毫米） | 600、900、1,200、1,600、2,500 |
| 最高温度（°C） | 1,600（可选 2,200） |
| 加热区 | 3 至 4 |
| 基压 (mbar) | 0.02 |
| 反应器类型 | 底部装料 |
| 转盘（转速可调，RPM） | 0.1 至 3 |
| 气体系统和液体源计量 | N₂、H₂、CH₄、MTCS、SiCl₄ |
| 气体净化 | 湿式洗涤塔 |
对CVD反应器感兴趣吗？
材料解决方案
我们已为客户开发了多种工艺和设备，用于制备先进的涂层材料，例如：
| 可用腔室直径（毫米） | 600、900、1,200、1,600、2,500 |
| 最高温度（°C） | 1,600（可选 2,200） |
| 加热区 | 3 至 4 |
| 基压 (mbar) | 0.02 |
| 反应器类型 | 底部装料 |
| 转盘（转速可调，RPM） | 0.1 至 3 |
| 气体系统和液体源计量 | N₂、H₂、CH₄、MTCS、SiCl₄ |
| 气体净化 | 湿式洗涤塔 |
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