以获得最佳效果

纯化

技术概述

对于高性能应用而言，实现卓越的纯度至关重要。凭借我们先进的纯化技术，可在真空高温环境下有效去除石墨和CFC组件中的杂质。通过定制化的气体处理工艺（包括反应性或非反应性处理），可将杂质含量控制在5 ppm或以下，满足客户的严格要求。这确保了系统的最大运行时间，并能持续提供卓越的性能表现。

FiC工艺具有卓越的清洁效果，能有效去除超级合金表面的氧化物，确保在焊接或钎焊作业前达到最佳效果。

氟离子清洗

在真空环境下，利用活性或惰性气体进行高温除杂。

石墨净化