红外去极化扫描
晶圆级应力测量是一项成熟的技术,可用于对半导体材料内部应力进行光学、无损且非接触式的表征。该技术利用光弹性效应使应力可视化,从而能够对半导体生产工艺的各个步骤进行密切监测。
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半导体
SIRD 系统可对半导体晶圆进行快速、非接触且无损的应力与缺陷分析。该系统利用光弹性效应,能够识别全局应力场以及位错和裂纹等关键缺陷。它支持硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、磷化铟、氮化铝及其他化合物半导体材料。
SIRD 为晶体生长优化和可靠的质量控制提供关键洞察,确保晶圆性能始终如一地保持高水平。
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