等离子应用与工艺支持

我们的前端实验室配备了一个100级洁净室，其中运行着多种配置的最新批量处理和单晶圆系统。这些设备用于光刻胶去除、应力消除刻蚀以及其他前端等离子体工艺等应用。

我们的前端团队提供实操指导，助您优化关键等离子体工艺步骤，并获得稳定、可重复的结果。我们将与您紧密合作，共同优化工艺、验证参数，确保您的前端应用获得可靠的性能表现。

我们的后端设备区配备了采用微波和高频（>13.56 MHz）激励的批量及单基板等离子体设备。此外，我们还提供专用于太阳能电池边缘蚀刻的系统，可满足广泛的工业应用需求。

我们的后端专家将协助您开发和优化用于先进器件结构的等离子体工艺。从故障排除到工艺优化，我们助您获得高质量成果，并确保后端工作流程中性能的一致性。

我们位于德国耶拿的实验室提供计量系统支持，包括基于激光的技术和表面污染分析，确保对您的材料和组件进行精确表征。

我们的计量专家将协助您评估材料、解读结果，并根据您的需求定制测量方案。我们确保您的表征流程能提供清晰、可操作的洞察，助您做出自信的决策。