清洁。处理。活化。
技术概述
PVA TePla 是等离子体表面处理领域的领先专家，提供世界一流的技术，并在前端和后端的所有干法刻蚀应用中广受客户认可。
等离子体氮化处理能使零件表面氮化和／或碳化，从而提高其抗磨损与抗腐蚀能力。
前端等离子体技术在半导体制造过程中，能执行至关重要的晶圆清洗与表面处理。
等离子体后端制程可在晶片封装过程中，有效实现半导体元件的清洁与活化。
大气式等离子体是一种先进的表面处理技术，能在常压下透过高效率的清洁、活化及官能化处理来做材料的表面改性。
真空式等离子清洁与活化技术利用低压离子化气体，温和地处理表面，以提升附着力与效能。
