材料解决方案

CVI Systems

我们已为客户开发了多种工艺和设备,涵盖先进的基体材料:

  • BN
  • PYC
  • SiC
  • B4C
  • ZrC
  • HfC
  • SiBC
  • SiBN
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Technician working in a high-tech semiconductor manufacturing facility
技术参数
可用腔室直径(毫米)600、900、1,200、1,600、2,500
最高温度(°C)1,600(可选 2,200)
加热区3 至 4
基压 (mbar)0.02
反应器类型底部装料
转盘(转速可调,RPM)0.1 至 3
气体系统和液体源计量N₂、H₂、CH₄、MTCS、SiCl₄
气体净化湿式洗涤塔

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