精确的工艺控制与最高纯度

在工艺过程中,可通过摄像头实时监测晶体直径和熔融区高度。由于采用非接触式熔炼——即利用涡轮分子泵产生的高极限真空,并使用超纯氩气作为工艺气氛——因此能有效防止工艺过程中的污染。

大晶体生长

为了生长大晶体,FZ-35 可在氩气氛围下产生高达 5 bar 的过压。上主轴和线圈均可自动定位。除氩气外,还可向工艺腔内引入氮气。 可选配置包括用于晶体掺杂的气体掺杂系统、封闭式去离子冷却水系统、用于处理源棒的整形器,以及用于调整种晶取向的系统。

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View into a float‑zone crystal growth chamber showing the molten silicon zone during processing
技术参数
拉晶长度2,700 毫米
晶体直径最大 200 毫米 (8 英寸)
最终真空度2.5 × 10⁻⁵ 毫巴
最大过压5.0 bar(g)
材料:硅 
高度11,550 毫米
宽度3,800 毫米
深度4,050 毫米
占地面积(总计)5,000 × 6,000 毫米
总重量约 2,500 公斤

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