主要特点

IoN Custom series

根据基板尺寸、形状和材料量身定制的电极几何结构，实现无与伦比的均匀性和工艺控制
真正实现原子层级精度，或在所需位置进行高速刻蚀/活化/沉积——这是传统平行板或现成系统无法做到的
集成先进功能，包括高性能 PECVD、多区气体输送以及专用前驱体注入
在给定的定制腔室容积和功能范围内，实现最小洁净室占地面积
完整的交钥匙解决方案：工艺开发、认证及长期服务，由 PVA TePla 25 多年积累的工业等离子体专业技术提供支持

The PVA TePla IoN 300 plasma system features a white cabinet with a control interface and a grey chamber door for semiconductor equipment processing.

The PVA TePla IoN 300 is a plasma system unit featuring a control panel and a secure chamber door designed for industrial semiconductor equipment use.

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