优点

GIGAfab M

  • 最佳等离子处理效果与工艺工程能力

  • 大型平面等离子体源

  • 支持单片或批量处理,最大晶圆尺寸为 300 毫米或 4×150 毫米

  • 符合 ISO 5 标准

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Plasma frontend Gigafab M detail view showing a drawer with two wafers inside.

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