一机多用

VEreveal

  • 专为半导体工厂环境(ISO 3级)设计的在线检测系统
  • 支持宏观检测(macro)、微观检测(micro)或两者结合(fusion)
  • 近实时采集与评估,专为连续生产监控设计
  • 单次运行即可实现晶圆全表面(100%)检测
  • 替代多种测量方法:无需单独进行FT-IR、SEM、LIBS、X射线或AFM测量
  • 空间分辨率从 300 µm(宏观)到亚微米级(微观)
  • 支持最大300毫米的晶圆尺寸
  • 通过 SEMI S2、S8 和 S14 标准认证
  • 多样的定制选项
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Scanning InfraRed Depolarization System with monitor
技术参数
测量模式反射率
测量时间< 10 秒(典型值)
波长范围VNIR:400–1,000 nm | SWIR:900–1,700 nm
光谱分辨率VNIR:1.34 nm | SWIR:3.5 nm


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