特別功能

Kronos

為提供最佳的使用便利性,本系統可選配移動式裝卸系統,不僅簡化操作流程,更能確保高效且安全的運作。此外,其高精度的溫度控制與梯度管理亦值得特別關注,所有參數皆可針對特定材料系統進行精確調整。

Kronos 為採用 VGF 製程的晶體生產提供強大且可靠的解決方案,完美契合現代半導體與材料技術的需求。

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Vertical Gradient Freeze crystal growth system in a cleanroom environment
技術資料
坩堝直徑4 英吋 – 6 英吋
坩堝高度最高 450 毫米
腔室直徑800 毫米
腔室高度975 毫米
操作壓力最高 40 巴
加熱器數量4
材質砷化鎵、磷化銦
高度大約 3,800 毫米 (不含可選溫度測量)
寬度大約 1,920 毫米
深度大約 3,000 毫米
總重量大約 6,000 公斤
選配移動式裝卸系統
建議天花板高度移至少 5,000 mm(用於拆卸腔體頂蓋)

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