橢圓偏光儀技術（Ellipsometry)

橢圓偏振光譜法是一種光學測量技術，透過分析偏振光在表面反射後的變化來進行分析。該技術能夠極其精確地測定薄膜厚度——通常可精確至亞奈米級——並能對光學功能及材料特性進行高度精確的表徵，因此對於先進的半導體製程而言至關重要。

作為一種無損檢測技術，它能為次世代半導體製造提供可靠的量測數據，以優化良率並實現製程控制。

橢圓偏振光譜法是透過將偏振光以特定角度照射至樣品表面，來表徵薄膜的特性。當光線從表面及任何底層反射時，其偏振狀態會因各層厚度、折射率 (n) 及消光係數 (k) 的差異而發生變化。

該系統透過橢圓偏振參數 Psi (Ψ) 和 Delta (Δ) 來測量產生的偏振變化，這些參數描述了光線中 p 偏振與 s 偏振分量之間的振幅比與相位差。

隨後透過光學模型對測量數據進行分析。藉由此擬合過程，橢圓偏振光譜法可確定：薄膜厚度、折射率與消光係數、材料組成以及多層堆疊的特性。

總而言之，橢圓偏振光譜法是一種高靈敏度的非破壞性光學測量技術，用於表徵半導體及先進材料製程中的薄膜系統。

• 半導體晶圓上薄膜的厚度與光學性質測量
• 介電層、金屬層及半導體層的特性分析
• 開發與大規模量產中的製程控制
• 薄膜驗證與材料特性分析

LuXpector THEA 是一款高通量、全自動薄膜測量系統，專為尖端半導體與電力電子應用而設計。該系統能以卓越的精度與穩定性，對薄膜、介電層、鍍膜層及複雜的多層結構進行精確表徵。
其多功能性與高精度，使其成為處理 Si、SiC、GaN 及其他先進材料平台的晶圓廠之理想解決方案，並能滿足次世代元件製造日益嚴苛的需求。