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電漿應用製程支援
Interior view of an illuminated plasma chamber with glowing light and reflective walls.

電漿應用及製程支援

為了協助客戶解決應用挑戰並開發全新製程,我們在三個核心戰略位置設有設備完善的應用實驗室:德國法蘭克福附近的韋滕貝格(Wettenberg)、德國耶拿(Jena),以及美國加州的科羅納(Corona)。每個實驗室均配置了我們最新一代的電漿製程系統,能夠提供快速、實務的技術支援與協同製程開發。

 

進一步了解電漿表面處理

實驗室

前端處理實驗室

我們的前端實驗室設有 100 級無塵室,其中運行著多種配置的最新批次處理與單晶圓系統。這些設備適用於光阻去除、抗拉蝕刻及其他前端等離子體製程等應用。

我們的前端團隊提供實地指導,協助您優化關鍵等離子體製程步驟,並達成穩定且可重複的結果。我們將與您密切合作,共同優化製程、驗證參數,並確保您的前端應用能獲得可靠的性能表現。

後端處理實驗室

我們的後端區域配備了採用微波及高頻(>13.56 MHz)激發技術的批次與單晶片等離子體設備。此外,我們還提供專用於太陽能電池邊緣蝕刻的系統,可支援廣泛的工業應用。

我們的後端專家將協助您開發並優化適用於先進元件結構的等離子體製程。從故障排除到製程優化,我們致力協助您在後端工作流程中獲得高品質成果,並確保性能的一致性。

量測應用支援

我們位於德國耶拿的實驗室提供量測系統支援,包括基於雷射的分析及表面污染分析,確保能為您的材料與元件進行精確的特性分析。

我們的量測專家將協助您評估材料、解讀結果,並根據您的需求量身打造量測策略。我們確保您的特性分析流程能提供清晰且具實用價值的洞見,助您做出自信的決策。

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Gigabatch 380p detail view showing internal components and control interface.

前端

GIGA 690 plasma system with open batch process chamber and high-capacity substrate loading

後端

System for the optical, non-destructive, and contactless characterization of stresses with monitor.

量測應用

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