清潔。處理。活化。

電漿表面處理

技術概覽

電漿表面處理

PVA TePla 是電漿表面處理領域的領先專家,提供世界級技術,並在前端與後端的所有乾式蝕刻應用中廣受客戶青睞。

脈衝電漿氮化

電漿氮化處理能使零件表面氮化和/或碳化,從而提高其抗磨損與抗腐蝕能力。

脈衝等離子體氮化
Interior of a plasma frontend showing multiple wafers being inserted into a cylindrical holder.

電漿的前端運用

前端電漿技術在半導體製造過程中,能執行至關重要的晶圓清洗與表面處理。

前端用的等離子體
Plasma backend system detail view showing metallic electrode grid and interior components.

電漿的後端運用

電漿後端製程可在晶片封裝過程中,有效實現半導體元件的清潔與活化。

後端用的等離子體
Laboratory power/control box with front-panel controls and attached coiled cable

大氣式等電漿清洗

大氣式電漿是一種先進的表面處理技術,能在常壓下透過高效率的清潔、活化及官能化處理來做材料的表面改性。

大氣壓等離子體清洗
Compact plasma processing unit with door open to reveal multiple loading trays and a touchscreen display

電漿清潔與活化

真空式電漿清潔與活化技術利用低壓離子化氣體,溫和地處理表面,以提升附著力與效能。

等離子體清潔與活化