欲獲得最佳效果

高溫真空純化技術

技術概覽

對於高性能應用而言，實現卓越的純度至關重要。憑藉我們先進的純化技術，可在真空高溫環境下有效去除石墨及 CFC 元件中的雜質。透過量身訂製的氣體處理（無論是反應性或非反應性），可將雜質含量控制在 5 ppm 或以下，滿足客戶嚴格的要求。這確保了系統的最大運轉時間，並能持續提供卓越的成果。

FiC 製程能提供卓越的清潔效果，有效去除超級合金表面的氧化物，確保在進行焊接或釬焊作業前達到最佳狀態。

氟離子清洗

利用反應性或非反應性氣體，在真空環境下於高溫下去除雜質。

石墨純化