IoN 客製化系列

• 量身打造的電極幾何結構，精準匹配基板尺寸、形狀及材質，實現無與倫比的均勻度與製程控制
• 真正具備原子層級的精準度，或能在您所需的精確位置進行高速蝕刻/活化/沉積——這是傳統平行板或現成系統無法做到的
• 整合先進功能，包括高性能 PECVD、多區氣體輸送及專用前驅體注入
• 在既定的客製化腔室體積與功能下，實現最小潔淨室佔地面積
• 完整的交鑰匙解決方案：製程開發、驗證及長期服務，背後有 PVA TePla 逾 50 年的工業等離子體專業技術作為後盾