主要功能

IoN 客製化系列

量身打造的電極幾何結構，精準匹配基板尺寸、形狀及材質，實現無與倫比的均勻度與製程控制
真正具備原子層級的精準度，或能在您所需的精確位置進行高速蝕刻/活化/沉積——這是傳統平行板或現成系統無法做到的
整合先進功能，包括高性能 PECVD、多區氣體輸送及專用前驅體注入
在既定的客製化腔室體積與功能下，實現最小潔淨室佔地面積
完整的交鑰匙解決方案：製程開發、驗證及長期服務，背後有 PVA TePla 逾 25 年的工業等離子體專業技術作為後盾

The PVA TePla IoN 300 plasma system features a white cabinet with a control interface and a grey chamber door for semiconductor equipment processing.

The PVA TePla IoN 300 is a plasma system unit featuring a control panel and a secure chamber door designed for industrial semiconductor equipment use.

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