技術資料
| 可用腔室直徑 (mm) | 600、900、1,200、1,600、2,500 |
| 最高溫度 (°C) | 1,600（可選配 2,200） |
| 加熱區 | 3 至 4 |
| 基底壓力 (mbar) | 0.02 |
| 反應器類型 | 底部裝料 |
| 可調速轉盤（RPM） | 0.1 至 3 |
| 氣體系統與液體來源的定量添加 | N₂、H₂、CH₄、MTCS、SiCl₄ |
| 氣體淨化 | 濕式洗滌塔 |
對 CVD 反應爐有興趣嗎？
材料解決方案
針對先進塗層材料，我們已為客戶開發了眾多製程與設備，例如：
| 可用腔室直徑 (mm) | 600、900、1,200、1,600、2,500 |
| 最高溫度 (°C) | 1,600（可選配 2,200） |
| 加熱區 | 3 至 4 |
| 基底壓力 (mbar) | 0.02 |
| 反應器類型 | 底部裝料 |
| 可調速轉盤（RPM） | 0.1 至 3 |
| 氣體系統與液體來源的定量添加 | N₂、H₂、CH₄、MTCS、SiCl₄ |
| 氣體淨化 | 濕式洗滌塔 |
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