液體量測
液體量測透過從樣品採集至分析結果的完整受控流程，監測液體製程化學品的化學純度、濃度與穩定性。樣品可取自製程槽體或供應管路，經稀釋或適當前處理後，再透過 ICP-MS 進行分析，提供定量且具元素特異性的超微量污染物數據，檢測極限可低至 ppt 等級。
可靠且具可比性的分析數據，能讓微小的化學變化在影響製程性能之前即被辨識。液體量測適用於各種化學純度直接影響製程結果的應用，包括半導體濕式清洗、CMP、電鍍、超純水監測、超純化學品製造，以及進料化學品檢驗等，從獨立式實驗室系統到晶圓廠內的全整合式解決方案皆可適用。
液體量測不僅僅是一個測量步驟。它是從樣品到結果的完整流程，而每個階段都決定了結果的品質、一致性與可靠性。在超純化學環境中，樣品之間的無污染轉換至關重要。 有效的沖洗能防止攜帶污染、維持潔淨度，並確保各次測量結果的完整性，因此是任何受控工作流程的基礎環節。對於要求嚴苛的半導體及超純化學應用而言，工作流程的重要性與儀器本身同樣關鍵。
相關產業
半導體
半導體技術的進步不僅需要更快的晶片，更需要達到過去難以想像的純度水準。設計公差的縮小對製程的每一個步驟——從化學品供應到廠內分析——都帶來了壓力，並要求檢測限達到令傳統樣品處理方式面臨極限的程度。 LiquidPrep 800 是一款自動化校準與稀釋系統，專為半導體環境中進行 ICP-MS 分析前的受控化學製備而設計。它有助於減少樣品處理過程中的操作失誤與污染風險，並能提供可靠的化學品質控制數據，當化學污染水平超出預期時，這些數據可支援廠內警報處理與及時應變。
配備 µSI 的 LiquidPrep 800 服務於純度與精確度絕無妥協餘地的完整生態系統：
- 半導體製造
- 超純化學品生產與供應
- 顯示器與 OLED 製造
- 半導體設備與量測實驗室
- 專業分析服務實驗室
常見問題
為何液體量測在半導體製造中如此重要？
半導體製造是全球化學品使用最密集的產業之一。一座先進晶圓廠會使用數百種不同的化學品，而許多關鍵製程步驟都需要對化學品純度進行極為嚴格的控制。
因此，液體量測對於維持製程穩定性、產品品質與生產運行的可靠性至關重要。
如果污染未能在早期被發現，會對半導體製造造成什麼影響？
即使單一污染事件也可能導致晶圓損失，並產生重大成本。此外，也可能造成設備停機、提高製程風險，並影響生產過程中的一致性與穩定性。
有效的液體量測能夠及早辨識微小的化學變化，協助降低上述風險。
為何先進節點正推動液體量測技術的需求持續增長？
3 nm、2 nm 等先進製程節點，對化學品控制的要求比以往更加嚴格。隨著製程對微小變化變得更加敏感，對於更精確的樣品前處理、更可靠的樣品導入，以及更穩定可靠的分析結果的需求也隨之提高。
為什麼超純水（UPW）的製造與供應也屬於液體量測的應用範疇？
超純水（Ultra-Pure Water, UPW）是半導體製造中不可或缺的重要公用系統，必須維持極高的純度。持續監測超純水品質，有助於維持製程的一致性、降低污染風險，並確保多個製程步驟的可靠運行。
為什麼目前許多實驗室在液體量測方面仍面臨挑戰？
許多實驗室目前採用的工作流程，並非專為超微量化學分析的需求所設計。常見的實驗配置往往依賴手動樣品前處理、獨立的分析系統，或是無法完全控制稀釋、沖洗或殘留的通用型自動進樣器。這不僅會帶來不必要的風險，也使得獲得穩定且可重複的結果變得更加困難。
對液體量測感興趣嗎？