優點

GIGAfab M

  • 最佳的等離子體處理效果與製程工程能力

  • 大型平面等離子體源

  • 可處理單片或批次晶圓,最大尺寸達 300 mm 或 4 片 150 mm

  • 符合 ISO 5 標準

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Plasma frontend Gigafab M detail view showing a drawer with two wafers inside.

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