VEreveal

• 專為半導體製造廠環境設計的在線檢測系統（ISO 3級）
• 可選配宏檢（macro）、微檢（micro）或兩者結合（fusion）
• 近即時影像擷取與評估，專為連續生產監控而設計
• 單次運行即可完成晶圓全表面（100%）檢測
• 取代多種測量方法：無需分別進行傅立葉變換紅外光譜 (FT-IR)、掃描式電子顯微鏡 (SEM)、激光誘導擊穿光譜 (LIBS)、X 射線或原子力顯微鏡 (AFM) 測量
• 空間解析度從 300 µm（宏檢）至亞微米級（微檢）
• 支援最大 300 mm 晶圓尺寸
• 通過 SEMI S2、S8 及 S14 標準認證
• 多樣化的客製化選項