晶圓表面測量系統

• 從製程化學品到 ICP-MS 校準液，所有介質皆由系統全自動供應。
• 全自動沖洗與清潔循環。
• 將污染和操作錯誤對人員及產品造成的風險降至最低。
• 降低人力成本：中央主機電腦控制整個系統，可透過 SECS/GEM 遠端操作或控制所有組件，並提供即時結果。