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從您的實驗台獲得全面洞察

VEpioneer 系列

  • 完全整合、一鍵操作的桌上型高光譜視覺系統，開箱即用
  • 單次運行即可完成無損、全表面（100%）檢測
  • 測量速度極快，10 秒內即可完成
  • 層厚檢測範圍為 1 奈米至 500 微米，視層材而定
  • 可對缺陷、污染物及表面特性進行空間解析度識別
  • 相容於廣泛的基板類型：半導體、金屬、聚合物、陶瓷、玻璃等
  • 透過 VEsolve® pro 軟體進行集中控制與評估

VEpioneer 宏觀

  • 專為肉眼級檢測設計的緊湊型桌面系統
  • 可容納最大 360 × 360 毫米的樣品
  • 空間解析度為 100 - 300 µm，並提供高解析度掃描模式
  • 專用樣品載台與多樣化的客製化選項

VEpioneer micro

  • 專為顯微檢測優化的桌上型系統
  • 可實現亞微米級空間解析度（視顯微鏡物鏡而定）
  • 可處理最大 130 × 130 公釐的樣本
  • 操作靈活：可透過搖桿進行手動控制，或透過軟體實現全自動操作

VEpioneer 核心

  • 全球最小的全整合式高光譜視覺桌上型系統
  • 超緊湊機身，尺寸僅 230 × 200 毫米，重量僅 12 公斤
  • 適用於最大 100 × 100 毫米的樣本尺寸
  • 提供 100 µm 的空間解析度，是進入高光譜檢測領域的理想入門選擇 

VEpioneer 半導體

  • 適用於無塵室的版本（ISO 3級），內建層流FFU
  • 專為宏觀晶圓檢測設計，支援 200 mm 及 300 mm 晶圓
  • 配備三點式晶圓夾具，確保安全且無污染的操作
  • 空間解析度從 300 µm 起，並提供高解析度掃描模式
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Sensor head inspecting a semiconductor wafer with colorful chip structures.
PVA TePla VEpioneer benchtop acoustic microscopy system.
The PVA TePla VEpioneer MICRO metrology system for semiconductor equipment, featuring a microscope head, stage, and control unit on a black base.

The PVA TePla VEpioneer MICRO is a specialized metrology system designed for precise inspection tasks within semiconductor equipment environments.

A white PVA TePla metrology system featuring an internal scanning sensor positioned above a wafer stage for precise semiconductor inspection.

A PVA TePla metrology unit designed for semiconductor equipment analysis, showing a scanning sensor positioned over a wafer stage.

A PVA TePla semiconductor equipment unit for metrology featuring a glass chamber with a wafer inside, isolated against a black background.

This PVA TePla system is designed for semiconductor metrology, featuring a glass chamber that houses a wafer for precise inspection.

技術資料
測量模式反射率
測量時間< 10 秒（典型值）
波長範圍VNIR：400–1,000 nm | SWIR 1：900–1,700 nm
光譜解析度VNIR：1.34 奈米 | SWIR：3.5 奈米
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